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    MC-014鈦合金等離子滲氮

    MC-014鈦合金等離子滲氮

    • 所屬分類:鈦合金等離子滲氮
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    • 發布時間:2022-12-29 14:50:24
    • 產品概述

    MC-014鈦合金等離子滲氮

    鈦合金的滲氮可在多種含氮介質中進行,如鹽浴滲氮、氣體滲氮及等離子滲氮。等離子體滲氮技術也可以應用于鈦合金的表面處理。與鋼的滲氮相似,通人爐中的含氮氣體(如氨氣、氮氣/氫氣混合氣等)分解并電離成氮離子,并在電場作用下轟擊工件表面。粒子轟擊而形成的濺射可以有效地去除鈦合金表面的氧化物膜,使表面活化。同時,粒子轟擊也會在表面形成晶體缺陷(如空位、位錯等)。上述兩個因素的作用促進了氮在表面的吸收,從而加快了滲氮速度。因此,鈦合金離子滲氮時的溫度比氣體滲氮的要低,一般在700一900℃之間。

    理層由表面的TiN薄層(( 2.5 Earn )、較厚的Tie N亞表層(105m)及氮的擴散層(10一15 pm)組成。處理所用氣體成分、壓力、時間和溫度直接影響離子滲氮層的組織和性能。欽合金的離子滲氮可以用氮氣、氨氣、氮氣一氫氣或氮氣一氫氣混合氣體作為供氮氣體來形成氮離子。處理時的工作壓力一般來說在10一103 Pa(1-10 mbar)范圍內。近期的研究表明,使用氮氣一氫氣混合氣體時表面TiN層形成速度較快,氮氣一氫氣混合氣體次之,純氮氣較慢。

    MC-014鈦合金等離子滲氮

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